第168章 光刻机新进展(第2/5 页)

“林总，我们已经进行了多次实际测试。这个新镜头在100纳米尺度下的光刻精度已经非常稳定了。它能够清晰地刻出复杂的电路结构，而且在不同的芯片材料上都表现出了良好的适应性。”姜老自豪地说道。

林宇心中的一块大石头落了地：“姜老，这真是个好消息。那EUV光源的稳定性问题呢？上次您提到这个是一个关键的挑战。”

姜老的表情变得严肃起来：“林总，EUV光源的稳定性我们也有了很大的改善。你还记得上次我们调整了光源的激发频率和能量输入方式吗？在那之后，我们又对光源的内部结构进行了优化。”

姜老带着林宇来到一个单独的房间，里面摆放着一个巨大的EUV光源装置。装置周围布满了各种监测仪器，数据在屏幕上不断跳动。

“我们改进了EUV光源的等离子体产生机制，通过精确控制电子的注入和磁场的约束，使得等离子体的稳定性大大提高。现在，EUV光源的输出功率波动已经控制在一个非常小的范围内，基本能够满足长时间光刻的需求。”姜老详细地介绍着。

林宇仔细观察着仪器上的数据，脸上露出了满意的笑容：“姜老，您和您的团队真是太厉害了。这对我们公司来说是一个巨大的突破。”

姜老摆摆手：“林总，先别高兴得太早。虽然我们在这些关键部件上取得了进展，但整个光刻机系统还有一些问题需要解决。”

林宇心中一紧：“姜老，还有什么问题呢？”

姜老带着林宇回到白板前，指着白板上的一些电路图和控制系统图说道：“林总，你看，目前我们的光刻机控制系统还不够智能化。在光刻过程中，需要实时监测和调整的参数非常多，比如光刻胶的曝光剂量、工作台的移动速度、光源的功率等等。我们现有的控制系统在处理这些复杂的参数时，响应速度和精度还有待提高。”