第45章 第七次测试成功，变数(第3/6 页)
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……
研究人员见到苏哲和范晓明进来，鼓掌声更响了。
包正义见到苏哲，连忙迎了上来，大声说：“谢谢！太谢谢了！没有你提供的dyn-离子束抛光技术，我们还不知道要进行多少轮测试。”
“太客气了！包教授，第二组检测结果如何？”苏哲看着一脸激动的包正义问。
“好！非常好！和第一组差不多，镜面达到009纳米的面型精度峰谷值和19皮米的表面粗糙度。”包正义指着他工位上的显示屏，“这样的精度还是因为我们仓促测试的结果，等设备定型了，精度还会更高。”
苏哲看了看显示屏上两组光学镜头镜片的镜面检测结果，如同范晓明和包正义说的那样，虽说没有达到理论值，但比蔡斯加工的精度高。
这样的加工精度完全满足euv光刻机光学镜头的需要，国内芯片制程工艺能全面突破了。
他也能拿到提前预支的那一千万了，就是不知协议啥时候签？
正想这些的时候，耳边传来包正义的喊声。
“晓明！赶紧发邀请函，让那三十三家明天来参加技术报告会，对了！通知公正人员和法务，dyn-离子束抛光技术验证成功，协议就该签了。”
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