第55章 强子对撞机，两模型(第1/7 页)
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第二天，早晨。
包正义和范晓明两人吃完早饭晃悠悠的来到光学镜头研究中心。
在离子束抛光技术研究实验室逛了一圈，两人来到了办公室。
范晓明坐在自己的办公位上，包正义坐在苏哲的办公位上。
“老板！昨晚你把苏哲坑惨了，三十三家一百多号人围着苏哲，问这问那的，搞的苏哲夜里一点多才回到宿舍。”范晓明说着端起自己的茶杯。
“是吗！我的本意是想苏哲和这些人认识认识，这对苏哲以后的发展是有好处的，可没想到，那些人那么热情。”包正义尴尬的说，“你出门的时候，苏哲起来没有？”
“起来了，估计一会儿就能到。”范晓明回答。
“不管怎么说，有了苏哲提供的dyn-离子束抛光技术，高端光学镜头的事算是告一段落，euv光刻机光学镜头项目可以完结了，不过我们还要研究更加先进的抛光技术，不能止步于此。”包正义认真的说。
“是的！超越只是暂时的，不过离子束抛光这条技术路线基本上算是走到头了，想要再次提高镜片镜面的精度，只能寻找其他技术路线了。”范晓明喝了口水，“老板！接下来的新技术研发我就不陪你了，下午我要回陵州理工参加明天的硕士毕业典礼，完了回来把研究中心的事交接一下，准备准备去陵州理工读博了。”