第167章 光刻机技术的进展(第2/3 页)

姜老又指着旁边的一个设备模型说：“这是我们对光刻机的工作台部分的改进。我们通过优化传动系统和定位系统，使工作台的移动精度能够达到亚微米级别。这样在芯片制造过程中，就能更精准地进行光刻操作。”

林宇对这些成果非常满意：“姜老，您和您的团队真的很厉害。那目前整个100纳米光刻机的研发，还面临哪些问题呢？”

姜老的表情变得严肃起来：“小林啊，虽然我们取得了一些成果，但仍然面临不少挑战。首先是EUV光源的稳定性问题，虽然你给了我们EUV光源技术，但要让它在长时间的光刻过程中保持稳定的输出功率还是比较困难的。这会影响到光刻的精度和效率。”

林宇皱了皱眉头：“姜老，那有什么解决办法吗？”

姜老说：“我们正在尝试通过改进电源供应系统和冷却系统来提高EUV光源的稳定性。另外，光刻机的整体控制系统也还不够完善。我们需要开发一套更智能、更精确的控制系统，能够实时监测和调整光刻机的各项参数，以确保光刻过程的准确性。”

林宇思考片刻后说：“姜老，公司目前急需增加光刻机的产量。您看，如果在现有的基础上，我们能不能先组装出一些简易的光刻机来满足生产需求呢？虽然可能达不到100纳米的完美精度，但只要能提高一些生产效率也好。”

姜老沉思了一会儿说：“小林，理论上是可以的。我们可以利用现有的一些部件，组装出一些精度稍低的光刻机。但是这样做也有风险，可能会生产出一些次品芯片，这对公司的声誉可能会有影响。”

林宇权衡了一下利弊：“姜老，我知道有风险。但是目前订单的压力实在太大了。如果能在短时间内提高芯片产量，哪怕有一些次品率，我们可以通过后续的检测筛选出来。只要能保证最终交付给客户的产品质量就好。”

姜老点了点头：“既然你已经考虑清楚了，那我们可以尝试一下。不过，我还是建议我们要尽快解决100纳米光刻机的技术难题，这才是长久之计。”