第167章 光刻机技术的进展(第3/3 页)
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林宇表示同意：“姜老，您说得对。那在组装简易光刻机和完善100纳米光刻机技术方面，您这边还需要什么支持吗？”
姜老说：“小林，我们需要一些资金来购买更多的实验材料和设备。另外，我们也希望能有更多的技术人员加入到这个项目中来，加快研发进度。”
林宇毫不犹豫地说：“姜老，资金方面我会尽快安排财务部门给您拨付。技术人员方面，我会从公司的其他部门抽调一些有经验的人员过来支援您。”
就在这时，姜老的助手小李跑过来，兴奋地说：“姜老，林总，我们刚刚在EUV光源的稳定性测试中取得了新的突破。我们调整了光源的激发频率和能量输入方式，经过长时间的测试，发现光源的输出功率波动明显减小了。”
姜老和林宇听了这个消息都非常高兴。姜老说：“这是个好消息啊。看来我们的研发方向是正确的。只要继续沿着这个方向努力，EUV光源的稳定性问题很快就能解决了。”
林宇也激动地说：“姜老，这真是个振奋人心的消息。这意味着我们的100纳米光刻机技术离成功又近了一步。希望您和您的团队能够再接再厉，早日完成研发任务。”
在离开实验室之前，林宇又鼓励了姜老和他的团队一番。他知道，光刻机技术对于天宇科技来说至关重要，它不仅关系到能否满足眼前的订单需求，更关系到公司在半导体领域的长远发展。
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